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                上海大学客户

                发布时间:2020-04-16  浏览次数:158

                上海大学潘老师带领课题小组成员莅临我公←司参观考察,由我公司创始人徐晓〒冬教授亲自接待。

                潘老师对我公司的PECVD设备的具体参数做了详细了解,对该设备在演示过程中的出色↘表现给予了充分肯Ψ 定。


                PECVD简介:

                该产品是由固态等离子源、气体质子流量控制系统、衬ζ 底控温系统、真空系统组成,采用◇集中总线控制技术的官方彩票APP操作软件。适用于室︽温至1200℃条件下进∩行SiO2、SiNx薄膜▅的沉积,同①时可实现TEOS源沉积SiC膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料,尤其适合于有机材料卐上高效保护层膜和特定温度下无损︾伤钝化膜的沉积。


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