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                中科院新疆理化所

                发布时间:2020-04-16  浏览次数:178

                中国科学ω院新疆理化技术研究所引进了我公ω 司设计生产的高真空CVD系统,研究所王老师对我们的产品和◆服务给予了充分的肯定!


                CVD系统HR1200-110ITD3F

                设备简介:

                化学气相沉积(CVD)是指∑ 化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为①广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;


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